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SUN-502P 紫外正性光刻膠，是星泰克專利技術，主要特點為耐干法刻蝕性能好，120℃ 堅膜不變形。適合于深刻蝕工藝，比如 7 微米以上的氮化鎵刻蝕。SUN-502P 采用安全性溶劑。

SUN-100P 系列紫外正性光刻膠采用安全溶劑，具有曝光靈敏度高、對比度高、分辨率高、光刻成品率高以及良好的工藝寬容度等諸多優點。配方按 i- 線和g- 線光刻優化，金屬離子濃度在 20ppb 以下，可廣泛應用于 0.35μm 及以上線寬的IC 及相關半導體制造工藝。

適合于堿性顯影液顯影，采用安全溶劑，具有對比度高、分辨率高、附著性佳、易于去除以及良好的工藝寬容度等諸多優點，是lift-off制造工藝的專用光刻膠。

SUN-125PSS紫外正性光刻膠系列有兩款產品，分別按i- 線、g- 線光刻優化，具有曝光靈敏度高、陡直度高、分辨率高、蝕刻對比度高、光刻成品率高以及良好的工藝寬容度等諸多優點，是圖形化藍寶石襯底—PSS 干法與濕法蝕刻工藝專用光刻膠。